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南大光電：現階段，公司ArF光刻膠的產品驗證主要集中在90nm~28nm制程工藝

每日經濟新聞 2023-06-02 15:53:30

每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：請問陸總，據您了解，目前國內下游晶圓廠是否有28nm以下缺陷檢測分析儀器，用于后期貴司高制程光刻膠的開發呢？

南大光電（300346.SZ）6月2日在投資者互動平臺表示，目前國內28nm以下制程用光刻膠缺陷檢測設備主要集中在國內晶圓廠處。現階段，公司ArF光刻膠的產品驗證主要集中在90nm~28nm制程工藝，后續將視項目需要，確定缺陷檢測儀的選用方案。

(記者王可然)

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